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分享真空管式气氛炉的亮点
  • 发布日期:2018-01-19      浏览次数:650
    •    真空管式气氛炉有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。主要应用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等 。
      分享真空管式气氛炉的亮点
        真空管式气氛炉温场效果:温度波动度:±1.0℃,温场均匀性±3.0℃;
        测温元件:K型热电偶;
        壳体结构:双层炉壳,炉体表面温度低,四周表面温度:≤ 35℃,内箱采用3mm spcc无缝焊接;
        可充气体:氢气,氮气,氧气和氩气及其它惰性气体;
        真空管式气氛炉操作系统:LED数显仪表,数字显示电流表、电压表,指针压力表;
        温控系统:温度控制方式为P.I.D+S.C.R可控硅,移相触发,可以调控制时间、升温速率、控制功率,PV值与SV同步显示,冲温不超过5℃;
        温控曲线:50段可编程控制,可设置50段升降温程序;
        真空管式气氛炉安全保护系统:具备完善的保护功能,有超温、短偶、过流、短路、传动动作连锁等功能,操作安全可靠;
        真空管式气氛炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能,该控制系统温度显示精度为±1℃,温场稳定度±5℃,升温速率可任意设置。