TN-G1200ZC管式炉CVD系统广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
TN-G1200ZC型管式炉CVD系统
该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
TN-G1200ZC管式炉CVD系统
采用双层风冷结构；炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；加热元件为进口电阻丝，配有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高，操作简单，维修方便等特点，可广泛用于冶金，机械，轻工，商检，高等院校及科研部门。广泛用于玻璃封装、陶瓷电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶，预烧和烧成，智能高温箱式炉，也可用于稀土发光材料及其他材料的热处理工艺。性能特点：
1.设备的控制系统先进，安全可靠、操作简单、控温精度高。
2.仪器采购商职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害，且不会对环境造成污染。
3.仪器保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、可通气氛抽，是化验室使用仪器的理想仪器。
技术参数：
1 | 产品名称 | |
2 | 产品型号 | TN-G1200ZC -503 工作室尺寸：直径50x300mm |
TN-G1200ZC -603 工作室尺寸：直径60x300mm | ||
TN-G1200ZC -803 工作室尺寸：直径80x300mm | ||
3 | 显示模式 | 触摸屏显示 |
4 | 炉膛模式 | 开启式 |
5 | 上限温度 | 1200℃ |
6 | 工作温度 | ≤1100℃ |
7 | 加热温区 | 单温区 |
8 | 温区长度 | 200mm |
9 | 恒温区长 | 100mm |
10 | 炉管材质 | 石英管 |
11 | 密封方式 | 不锈钢真空法兰 |
12 | 控温方式 | 智能化30段可编程控制，自动控温 |
13 | 控温精度 | ±1℃ |
14 | 加热速率 | ≤20℃ |
15 | 加热元件 | 进口合金加热丝 |
16 | 热电偶 | K型热电偶 |
17 | 炉膛材料 | 进口氧化铝陶瓷纤维 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 气体通道 | 可连接3种气源 |
20 | 电源 | 220v 50Hz～60Hz |
21 | 系统真空 | -0.1MPa |
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