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气氛炉

简要描述:

TN-Q1400ZK气氛炉
该仪器真空箱式炉高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、有机物质灰化、质量检测之用,也适用于军工、电子、医药、特种材料等生产和实验。

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TN-Q1400ZK气氛炉本设备广泛用于高等院校、科研院所、工矿企业、军工、电子、冶金、医药、陶瓷、玻璃、机械、金属、建材、化工等单位行业的新材料开发、热处理等实验和生产理想设备。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体(如氩)等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结,透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结,氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。

TN-Q1400ZK采用了宇电的触摸屏,集成智能PID,控温准确,可连接局域网,实时监控,另有USB 接口,可以将数据下载,可接无纸记录仪等外接设备。1.采用高纯高温加热元件,进口高温反射涂层材料,保证温场均匀性的同时保证加热空间的纯净性;2.八寸触摸屏控制;

TN-Q1400ZK气氛集成加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷却系统,外形美观大方,结构设计先进合理,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料,保温节能。

1

产品型号

炉膛尺寸mm

电压V

功率KW

炉膛容量

2

TN-Q1400ZK-10

100×100×200

220

2

2

3

TN-Q1400ZK-20

200×200×300

220

4

12

4

TN-Q1400ZK-30

300×300×400

380

12

14

5

TN-Q1400ZK-40

400×400×500

380

18

36

6

TN-Q1400ZK-50

500×500×600

380

21

150

7

TN-Q1400ZK-60

300×300×600

380

16

54

8

TN-Q1400ZK-40

400×400×600

380

21

96

9

TN-Q1400-40

400×400×700

380

35

112

10

TN-Q1400ZK-40

400×400×800

380

45

128

11

TN-Q1400ZK-60

600×600×700

380

28

252

12

温度类别:  1200℃  1400℃ 1700℃ 

13

注:炉膛尺寸及其他,可根据要求定制。

     

 

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