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实验气氛炉

简要描述:

实验气氛炉可在氮气、氩气等惰性气氛下工作,是工件不会产生氧化脱碳,具有温场均衡,升温降温速度快,节能等特点,外观精美,实用。主要用途:高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。

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实验气氛炉可在氮气、氩气等惰性气氛下工作,是工件不会产生氧化脱碳,具有温场均衡,升温降温速度快,节能等特点,外观精美,实用。广泛用于玻璃封装、陶瓷电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶,预烧和烧成,智能高温箱式炉,也可用于稀土发光材料及其他材料的热处理工艺。

实验气氛炉采用三面加热,保证炉膛内温度均匀。炉膛采用多晶莫来石陶瓷纤维成型,与传统马弗炉相比重量减轻了2/3,升温速度提高了一倍,大大节省了能源,其寿命提高了4倍。采用30段可编程温控表控制温度,智能化程度高,操作方便。炉体造型美观,采用内外双层风冷结构,在炉子高温工作时,炉壳表面保持低温,可有效避免烫伤工作人员。

 气氛炉温控仪只能设定温度~时间曲线,对于阻值一定的阻性负载,只要设定好适当的PID(比例、微分、积分)值,就能得到设定的温度曲线。而优化设计中的气氛炉加热元件是硅钼棒,其阻值随温度的变化而变化。特别是硅钼棒冷态阻值极小,初始升温时,即使电压调整器触发可控硅很小的导通角,反映到负载上的电流就可能很大,以致于烧毁快速熔断器或可控硅。传统的做法是在电压调整器上装一个10k电位器,对温控仪送给电压调整器的标准信号限幅,使负载上的电流减小。但随着温度的升高,硅钼棒的阻值迅速变大,这样又要求手工增大10k电位器的输出,一直到硅钼棒阻值变化不大时,才能把10k电位器调节到大,以保证设定的温度曲线,这样达不到全自动升温的目的。

 

 

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