TN-Q1400ZK-气氛炉

TN-Q1400ZK气氛炉本设备广泛用于高等院校、科研院所、工矿企业、*、电子、冶金、医药、陶瓷、玻璃、机械、金属、建材、化工等单位行业的新材料开发、热处理等实验和生产理想设备。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体（如氩）等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结，透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结，氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。

TN-Q1400ZK气氛炉采用了宇电的触摸屏，集成智能PID，控温准确，可连接局域网，实时监控，另有USB 接口，可以将数据下载，可接无纸记录仪等外接设备。1.采用高纯高温加热元件，进口高温反射涂层材料，保证温场均匀性的同时保证加热空间的纯净性；2.八寸触摸屏控制；

TN-Q1400ZK气氛集成加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷却系统，外形美观大方，结构设计先进合理，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，保温节能。