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TN-G1200ZC管式炉CVD系统

供应数量:338

发布日期:2020/4/28

有效日期:2020/10/28

原 产 地:

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TN-G1200ZC型1200℃管式炉CVD系统

该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

TN-G1200ZC管式炉CVD系统

技术参数:

1

产品名称

TN-G1200ZC管式炉CVD系统

2

产品型号

TN-G1200ZC -503 工作室尺寸:直径50x300mm

TN-G1200ZC -603 工作室尺寸:直径60x300mm

TN-G1200ZC -803 工作室尺寸:直径80x300mm

3

显示模式

触摸屏显示

4

炉膛模式

开启式

5

上限温度

1200℃

6

工作温度

≤1100℃

7

加热温区

单温区

8

温区长度

200mm

9

恒温区长

100mm

10

炉管材质

石英管

11

密封方式

不锈钢真空法兰

12

控温方式

智能化30段可编程控制,自动控温

13

控温精度

±1℃

14

加热速率

≤20℃

15

加热元件

进口合金加热丝

16

热电偶

K型热电偶

17

炉膛材料

进口氧化铝陶瓷纤维

18

功率

2.5Kw

19

气体通道

可连接3种气源

20

电源

220v 50Hz~60Hz

21

系统真空

-0.1MPa

22